二氧化碳雪清洗技术是利用高纯度液体或气体在特殊喷嘴中膨胀以形成高速喷射。 喷射器包含许多小直径的固体二氧化碳颗粒被称为雪的二氧化碳颗粒撞击表面并去除粘附的颗粒（甚至亚微米尺寸），碳氢化合物污渍，如指纹和鼻印，以及硅脂。 实际上，清洁晶圆表面的二氧化碳雪清洁导致了不定碳氢化合物的大量减少; 在一个案例中，减少约60％。 清洁和污染的硅晶片的表面分析表明，二氧化碳雪清洁不会导致明显的化学相互作用，也不会留下可检测到的残留物。

通常情况下，硅晶清洗方式

通过溶剂清洗，氧等离子体或氩离子溅射可以减少表面上的大量烃残留物。 但是，在某些情况下，这些清洁程序可能会留下额外的残留物或去除感兴趣的元素或化合物。

 在本文中，讨论了一种相对较新的清洗方式

利用二氧化碳雪清洗技术清洁去除碳氢化合物和真空润滑脂。 最初使用进行表面清洁。 这个过程进一步开发，使用高速喷射的小二氧化碳颗粒从硅表面去除颗粒和碳氢化合物薄膜。 高速喷射工艺已被证明在颗粒去除方面非常有效，相对去除效率超过99.9％。如本工作中所应用的二氧化碳雪清洁利用与小颗粒混合的高速CO2气体射流，称为“雪”。 通过在市售的喷嘴内膨胀气态或液态干冰雪来产生雪粒子。 迫使CO2气体和雪混合物通过喷嘴并喷洒在待清洁的表面上。 它是二氧化碳雪和气体的结合，可以从表面去除颗粒和碳氢化合物薄膜。

结论

二氧化碳雪清洁过程不会引入任何额外的污染，可以有效地去除多层晶圆表面的指纹，面油和硅脂。 清洁过程似乎可以去除通常在控制表面上发现的碳化合物。没有在清洁过的表面上观察到来自的残留物或化学反应的证据。 这种清洁方法不仅可以用于清洁样品以进行表面分析，而且可以用于工业环境中。